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亨亚手动超声波清洗机的清洗的工艺流程
洗机的清洗的工艺流程
超声波清洗技术最早出现于20世纪30年代早期,当时,位于美国新泽西州的美国无线电公司的一个实验室中的技术人员尝试用自制的简陋超声波清洗系统清洗某些物体,但试验未获成功。超声波可以对工件施加非常巨大的能量,尤其适用于清除牢固地附着在基底上的污垢。然而在某些情况下,超声波强大的能量也会损伤粘有污垢而性质脆弱的基底材料。在过去的十几年中,超声波领域中出现了一些技术革新,提高了清除敏感基底上的污物的安全系数。在此期间手动超声波清洗机技术,特别是中高频超声波清洗机技术有了新的发展,并成为行业的亮点。
近年来,人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同,把40 kHz及其以下的称为常规或低频超声波,把1 000 kHz以上的称为高频超声波,又称兆频超声波,简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒,并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。
一般来说,手动超声波清洗机的清洗的工艺流程依被清洗物体清洗的难易程度及清洗数量而决定。
主要清洗流程如下：
适用范围：精密光学镜片、液晶显示板、透镜、棱镜、显微镜片等的清洗
清洗流程：上料→中性液超声波清洗(设抛动、过滤、储液槽加热)→中性液超声波清洗(设抛动、过滤、储液槽加热)→纯水超声波清洗(设抛动)→纯水超声波清洗(设抛动)→纯水超声波清洗(设抛动)→纯水超声波清洗(设抛动、过滤、储液槽加热)→纯水切水槽(设切水装置、过滤、储液槽加热)→烘干(红外线、门自动提升装置)
1.为避免清洗槽，因热胀冷缩的原因而使换能器脱落，因此不能将过热的清洗液骤然倒入清洗缸内。 2.正确的选择清洗剂、对清洗效果很重要，要根据所需清洗物体表面的附着物，来确定清洗剂。一般有：除油剂、除锈剂、除漆剂、除碳剂、去蜡剂、及其它有机化学清洗剂。不能将含强酸、强碱的溶液注入到清洗槽内、去腐蚀清洗槽。
3.超声波清洗机在工作的过程中、会使液体产生一定的温度、使液体产生的液温、夏天一般稳定在55℃左右、冬天在45℃左右。
4.把需要清洗的物体放入清洗篮内或专用夹具上，被清洗物体不与槽体接触会有更佳的清洗效果。
5.加热器安装在内槽后侧的2/3以下的部位，在加热时、不要用手去触摸加热板部位，小心烫伤，在液位小于2/3内槽高度时不能加热，建议不要将手动超声波清洗机内槽溶液、长期加温到80℃以上、那样会缩短超声波清洗机的使用寿命。
